Oxidation behavior of TiAl at high temperatures in purified oxygen
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Scheibchen von 1 mm Dicke der Legierung TiAl wurden bei Temperaturen von 1100 bis 1400 K im Gravimeter bei Atmosphärendruck einem Gasstrom gereinigten Sauerstoffs ausgesetzt. Die Oxidation verläuft von ca. 20 ks bis 60 ks linear mit der Zeit. Danach verringert sich die Oxidationsgeschwindigkeit. Die Oxidation (m/A) folgt nicht dem parabolischen Gesetz (m/A)2 proportional t. Die Oxidationsschicht wurde an Bruchflächen mit dem Rasterelektronenmikroskop und mit EDX untersucht. Sie bestand aus zwei Teilen: einer äußeren Schicht aus TiO2, die aus der inneren porösen Schicht aus einer Mischung von TiO2 und Al2O3 (alpha-Aluminiumoxid) herausgewachsen war. Zwischen beiden Schichten hatten sich große Hohlräume gebildet. Nahe der Grenze Oxidschicht-Substrat wuchsen später dünne Al2O3-Plättchen nahezu senkrecht zur Oberfläche in das Substrat hinein. An der Grenze traten Risse auf.
Dokumentinformationen
Oxidation behavior of TiAl at high temperatures in purified oxygen
Oxidationsverhalten von TiAl in gereinigtem Sauerstoff bei hohen Temperaturen
Materials Transactions, JIM ; 32 , 2 ; 151-156
1991
6 Seiten, 10 Bilder, 2 Tabellen, 10 Quellen
Aufsatz (Zeitschrift)
Englisch
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