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    Extremely thin, single-crystal films of LiNbO/sub 3/ fabricated using localized He+ ion-implantation

    Extremely thin, single-crystal films of LiNbO/sub 3/ fabricated using localized He+ ion-implantation


    We demonstrate that extremely thin, i.e., /spl sim/2-3/spl mu/m, single-crystal films of LiNbO/sub 3/ can be formed on a wafer using patterned ion-implantation followed by chemical etching. Control of the membrane thickness and its waveguiding properties are demonstrated.

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    Dokumentinformationen

    Titel :

    Extremely thin, single-crystal films of LiNbO/sub 3/ fabricated using localized He+ ion-implantation

    Beteiligte:
    Djukic, D. (Autor:in) / Izuhara, T. (Autor:in) / Roth, R.M. (Autor:in) / Osgood, R.M. (Autor:in) / Bakhru, S. (Autor:in) / Bakhru, H. (Autor:in)
    Erschienen in:

    (CLEO). Conference on Lasers and Electro-Optics, 2005. ; 1 ; 229-231 Vol. 1

    Erscheinungsdatum :

    2005-01-01

    Format / Umfang :

    1494299 byte

    ISBN :

    1-55752-795-4

    DOI :

    https://doi.org/10.1109/CLEO.2005.201735

    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)

    Format :

    Elektronische Ressource

    Sprache :

    Englisch

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