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    IR spectroscopic ellipsometry for industrial characterization of semiconductors [4449-09]

    IR spectroscopic ellipsometry for industrial characterization of semiconductors [4449-09]


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    Dokumentinformationen

    Titel :

    IR spectroscopic ellipsometry for industrial characterization of semiconductors [4449-09]

    Beteiligte:
    Boher, P. (Autor:in) / Bucchia, M. (Autor:in) / Piel, J. P. (Autor:in) / Defranoux, C. (Autor:in) / Stehle, J. L. (Autor:in) / Pickering, C. (Autor:in) / Duparre, A. / Singh, B. / SPIE
    Kongress:

    Conference; 2nd, Optical metrology roadmap for the semiconductor, optical, and data storage industries ; 2001 ; San Diego, CA

    Erschienen in:

    Optical metrology roadmap for the semiconductor, optical, and data storage industries ; 69-78

    PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERINGG ; 4449

    Erscheinungsdatum :

    2001-01-01

    Format / Umfang :

    10 pages

    ISBN :

    0819441635

    ISSN :

    0277-786X

    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)

    Format :

    Print

    Sprache :

    Englisch

    Schlagwörter :

    optical metrology , semiconductor industries , data storage industries

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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