본 출원은 구조물의 표면을 정화하기 위한 장치(1)를 개시하며, 표면은 물 기둥 내에 잠수되고, 본 장치는, 잠수 표면에 평행한 방향으로 장치(1)가 물 기둥을 통해 이동하는 중에 장치(1)를 잠수 표면 쪽으로 조향하기 위한 적어도 하나의 핀(fin)(3); 및 적어도 하나의 핀(3)에 작용하는 항력에 반응하여 적어도 하나의 핀(3)을 장치(1)에 대해 회전시키기 위한 적어도 하나의 회전 수단을 포함하고, 적어도 하나의 핀(3)의 회전은 장치(1)를 잠수 표면 쪽으로 조향하기 위해 억제된다. 일 실시 형태에서, 본 장치는 잠수 표면과의 접촉에 반응하여 피봇(611) 주위로 회전하는 브러시(61)를 포함한다.
The present application discloses a device (1) for cleaning a surface of a structure, the surface being submerged in a water column, comprising: at least one fin (3) for steering the device (1) against the submerged surface while the device (1) moves, through the water column, in a direction parallel to the submerged surface; and at least one pivoting means for pivoting the at least one fin (3), in relation to the device (1), in reaction to a drag acting on the at least one fin (3), in which the pivoting of the at least one fin (3) is constrained for steering the device (1) against the submerged surface. In one embodiment the device comprises brushes (61) which rotate around their pivots (611) in reaction to a contact with the submerged surface.
물 기둥 내에 잠수되는 구조물의 표면을 정화하기 위한 장치
2019-05-15
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch