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    Titel :

    Reactive Flow in Halide Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbide Epitaxial Films


    Beteiligte:
    Wang, Rong (Autor:in) / Ma, Ronghui (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    2008-10-01


    Format / Umfang :

    8 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch