Titel :

Aspheric surface fabrication in nanometer-level accuracy by numerically controlled plasma chemical vaporization machining (CVM) and elastic emission machining (EEM) [4782-35]

Beteiligte:

Yamamura, K. (Autor:in) / Mimura, H. (Autor:in) / Yamauchi, K. (Autor:in) / Sano, Y. (Autor:in) / Saito, A. (Autor:in) / Kinoshita, T. (Autor:in) / Endo, K. (Autor:in) / Mori, Y. (Autor:in) / Souvorov, A. (Autor:in) / Yabashi, M. (Autor:in)

Kongress:

conference, X-ray mirrors crystals and multilayers ; 2002 ; Seattle, WA

X-ray mirrors crystals and multilayers ; 265-270

PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING ; 4782

Erscheinungsdatum :

2002-01-01

Format / Umfang :

6 pages

ISBN :

0819445495

ISSN :

0277-786X

Medientyp :

Aufsatz (Konferenz)

Format :

Print

Sprache :

Englisch

Schlagwörter :

X-ray mirrors , SPIE , crystals , multilayers

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