Titel :

High-power x-ray point source for next-generation lithography [3767-03]

Beteiligte:

Turcu, I. C. E. (Autor:in) / Forber, R. A. (Autor:in) / Grygier, R. K. (Autor:in) / Rieger, H. (Autor:in) / Powers, M. F. (Autor:in) / Campeau, S. (Autor:in) / French, G. (Autor:in) / Foster, R. M. (Autor:in) / Mitchell, P. V. (Autor:in) / Gaeta, C. J. (Autor:in)

Kongress:

Conference, EUV, X-ray, and neutron optics and sources ; 1999 ; Denver, CO

EUV, X-ray, and neutron optics and sources ; 21-32

PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING ; 3767

Erscheinungsdatum :

1999-01-01

Format / Umfang :

12 pages

ISBN :

0819432539

ISSN :

0277-786X

Medientyp :

Aufsatz (Konferenz)

Format :

Print

Sprache :

Englisch

Schlagwörter :

EUV optics , X-ray optics , neutron optics , SPIE

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